服务介绍
翘曲度是实测平面在空间中的弯曲程度，以翘曲量来表示，比如绝对平面的翘曲度为0。计算翘曲平面在高度方向最远的两点距离为最大翘曲变形量。晶圆翘曲度影响着晶圆直接键合质量，翘曲度越小，表面越平整，克服弹性变形所做的工就越小，晶圆也就越容易键合。晶圆翘曲度的测量既有高精度要求，同时也有要保留其表面的光洁度要求。
服务范围全国
检测周期5-7个工作日，可加急
相关资质可提供CMA、CNAS检测报告
服务模式快递寄样、现场取样、人工送样
服务对象企事业单位、高等院校、科研院所
服务方向采购销售、竞标投标、生产研发、科研数据、诊断优化、司法服务
检测标准国家标准、行业标准、企业标准、地方标准、国外标准、非标定制
服务内容
翘曲度是实测平面在空间中的弯曲程度，以翘曲量来表示，比如绝对平面的翘曲度为0。计算翘曲平面在高度方向最远的两点距离为最大翘曲变形量。晶圆翘曲度影响着晶圆直接键合质量，翘曲度越小，表面越平整，克服弹性变形所做的工就越小，晶圆也就越容易键合。晶圆翘曲度的测量既有高精度要求，同时也有要保留其表面的光洁度要求。所以传统的百分表、塞尺一类的测量工具和测量方法都无法使用。
晶圆翘曲度检测方法
| 检测方法 | 原理 | 优点 | 缺点 | 应用 |
|---|---|---|---|---|
| 光学检测法 | 利用光学成像或激光扫描测量晶圆表面的高度变化 | 测量速度快，精度高，适用于多种晶圆 | 需要高精度设备，如光学显微镜或激光扫描仪 | 广泛应用于半导体制造领域 |
| 机械接触法 | 通过机械探针逐点测量晶圆表面的高度变化 | 测量精度高，适用于高精度晶圆 | 测量速度慢，需要高精度设备 | 广泛应用于半导体制造领域 |
| 电容检测法 | 利用电容传感器测量晶圆表面的电容变化 | 测量速度快，操作简便 | 测量精度较低，需要高精度设备 | 广泛应用于半导体制造领域 |
| 激光干涉法 | 利用激光干涉仪测量晶圆表面的高度变化 | 测量精度高，适用于高精度晶圆 | 需要高精度设备，如激光干涉仪 | 广泛应用于半导体制造领域 |
晶圆翘曲度检测常见仪器
| 检测仪器 | 仪器类型 | 优点 | 缺点 | 应用 |
|---|---|---|---|---|
| 光学显微镜 | 普通光学显微镜 | 操作简便，成本低廉 | 测量精度相对较低 | 适用于一般精度要求的晶圆翘曲度检测 |
| 激光扫描显微镜 | 测量精度高，数据处理方便 | 成本较高 | 适用于高精度晶圆翘曲度检测 | |
| 机械接触测量平台 | 单点机械接触测量平台 | 操作简便，成本低廉 | 测量速度慢 | 适用于一般精度要求的晶圆翘曲度检测 |
| 多点机械接触测量平台 | 测量精度高，数据处理方便 | 成本较高 | 适用于高精度晶圆翘曲度检测 | |
| 电容检测平台 | 单点电容检测平台 | 操作简便，成本低廉 | 测量精度较低 | 适用于一般精度要求的晶圆翘曲度检测 |
| 多点电容检测平台 | 测量精度高，数据处理方便 | 成本较高 | 适用于高精度晶圆翘曲度检测 | |
| 激光干涉仪 | 单频激光干涉仪 | 操作简便，成本低廉 | 测量精度相对较低 | 适用于一般精度要求的晶圆翘曲度检测 |
| 双频激光干涉仪 | 测量精度高，数据处理方便 | 成本较高 | 适用于高精度晶圆翘曲度检测 |
晶圆检测相关问题：
问：薄膜的应力和厚度是成反比的关系吗？薄膜厚度越小，应力越大？
答：不是，薄膜应力是由薄膜化学键和晶格决定的，理论上与膜厚没有关系。但是在实际的生长过程中，会出现晶格匹配不完全/反应不完整/杂质掺入等一些问题，会导致不同膜厚的薄膜略有应力差异。
晶圆检测相关内容
网络研讨会
- 晶圆金属薄膜厚度的测量仪及测量方法
- 翘曲形变的监测方法及监测装置
- 外延层厚度测试装置和方法
- 曲率测量方法、系统、可读存储介质及计算机设备
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