光学轮廓测量(OP),也称为白光干涉测量(WLI),是一种基于非接触干涉的表面形貌表征方法。典型的光学轮廓仪分析提供用于表面分析的 2D 和 3D 图像、大量粗糙度统计数据和特征尺寸。除了这些标准测量外,康派斯还可以使用我们最先进的布鲁克轮廓GTX-8 3D和NPFlex光学仪器进行许多先进的光学轮廓测量分析。
这些包括:
- 分析自动化,用于对单个样品上的数百个特征进行高通量测量,例如图案化晶圆或芯片特征
- 透明连续薄膜的厚度测定
OP适用于多种应用和样品类型,因为它可以适应许多样品几何形状,提供广泛的可能分析尺寸和多功能Z范围,涵盖广泛的潜在表面粗糙度。康派斯致力于与我们的客户合作,开发独特的方法,通过我们的3D光学显微镜功能表征最具挑战性的样品的形貌。
OP理想用途
- 台阶高度和尺寸测量
- 表征机械零件的磨损和摩擦
- 确定焊料凸点高度的一致性,例如在倒装芯片和其他先进封装上
- 将粗糙度测量与材料特性相关联,例如附着力、腐蚀、外观
- 测量微流体通道、光学器件等的曲率半径
- 评估涂层/加工晶圆上的弓形,例如MEMS制造
- 量化连续透明薄膜的厚度(即无需物理步骤)
- 对芯片或晶圆上的多个特征进行高通量筛选
OP优势强项
- 首先,广泛的可能分析区域、特征高度和粗糙度统计
- 其次,它可容纳非常大和非常小的样本量
- 第三,用于非破坏性/非接触式应用
- 最后,它速度快,因此适合多次重复测量
OP缺点限制
- 某些样品类型上可能存在光学伪影
- 信号检测差,适用于非常陡峭和粗糙的表面
- 薄膜必须是透明的,并且具有已知的折射率,以便连续测量薄膜厚度
OP技术规格
- 横向分辨率:0.5 μm(最佳)
- 高度分辨率:0.01 纳米 (PSI) 或 6 纳米 (VSI)
- 最大特征高度:10 mm
- 最小图像尺寸:0.06×0.047毫米2
- 最大图像尺寸:2.2×1.1毫米2(单张图片);70×70 毫米2(拼接图片)
- 最大样品尺寸:直径 300 mm,重量 100 磅,高度 4 英寸/100 毫米
- 薄膜厚度:150 μm 至 2 μm 厚
OP相关资源
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