服务内容
薄膜不仅在 LED 和集成电路等高科技应用中发挥着重要作用,而且在触摸屏和钻头等日常产品中也发挥着重要作用。这些产品的性能受薄膜的成分、厚度、均匀性和其他特性的影响很大。康派斯可提供用于表征薄膜的分析技术和化学分析(例如 XPS、TOF-SIMS、FTIR)如何相互配对以及如何以互补的方式与显微镜(AFM、SEM、TEM 等)配对服务。
检测范围 |
检测项目 |
检测标准 |
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半导体表层薄膜 |
成分、厚度、均匀性等 |
GB/T 35269 GB/T 35255 GB/T 24908 IES LM-79-08 IES LM-82-12 |
半导体薄膜检测分析方法
半导体薄膜分析是半导体材料研究和生产中的重要环节,涉及多种方法和技术,主要包括化学分析和物理检测。以下是一些关键的分析方法:
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半导体薄膜均匀性无损检测方法及系统:
- 该方法通过光学参数测量,如折射率、消光系数和曲率半径,利用物理模型获得半导体薄膜的测量参数,如相对介电常数、压电系数、厚度及应力。
- 系统包括样品台、光学检测单元、分析单元、物理模型单元和评价单元,能够对多个测量点的同一测量参数进行均匀性评价。
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傅里叶变换红外拉曼光谱检测:
- 利用红外泵浦光的深穿透特性,减少覆盖薄膜的影响,有效提取半导体衬底的拉曼散射信息。这种方法可以用于探测半导体衬底下的特性,对于优化薄膜生长至关重要。
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半导体薄膜断层光谱仪:
- 该仪器能够表征薄膜不同深度处的组分分布、凝聚态结构、光学分布、电荷局域密度的空间和能量分布等,揭示薄膜中光学作用和电荷输运的机制。
- 该技术将传统的“一维光谱”展开成“二维光谱”,为器件中电荷分布及电荷输运提供了直接的实验证据,并可基于断层光谱数据建立多组分薄膜的光学和电荷输运模型。
这些方法和技术为半导体薄膜的分析提供了全面和深入的理解,包括薄膜的物理特性、化学组成以及结构特性。通过这些分析,可以优化半导体薄膜的性能,提高器件的效率和可靠性。
半导体检测分析相关内容:
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