聚焦离子双光束（FIB）仪器使用精细聚焦的离子束来修改和成像感兴趣的样品。聚焦离子双光束FIB主要用于创建非常精确的样品横截面，以便通过SEM，STEM或TEM进行后续成像或进行电路修改。此外，聚焦离子双光束FIB成像可用于直接对样品进行成像，检测来自离子或电子束的发射电子。聚焦离子双光束FIB的对比机制与SEM或STEM不同，因此在某些情况下可以获得独特的结构信息。聚焦离子双光束FIB/SEM将这两种技术集成到一个工具中，而单光束FIB仅包含离子束，电子束成像在单独的SEM，STEM或TEM仪器中进行。

作为样品制备工具，聚焦离子双光束FIB可以准确地产生样品的横截面，否则无法创建：

• 聚焦离子双光束FIB分析彻底改变了TEM样品的样品制备，使识别亚微米特征和精确制备横截面成为可能。
• 聚焦离子双光束FIB制备的切片广泛用于SEM显微镜，其中聚焦离子双光束FIB制备，SEM成像和元素分析可以使用相同的多技术工具进行。
• 聚焦离子双光束FIB制备的切片也用于俄歇电子能谱，以快速准确地提供地下特征的元素鉴定。
• 它是检测具有小而难以接近特征的产品的理想工具，例如半导体工业中的产品以及亚表面颗粒鉴定。
• 对于难以横截面的产品来说，这是一个不错的选择，例如难以抛光的软聚合物。

FIB理想用途

• 扫描电镜、STEM 和透射电镜样品制备
• 难以接近的小型样品特征的高分辨率横截面图像
• 通过原位提升进行微量取样

FIB优势强项

• 横截面小目标的最佳方法
• 快速、高分辨率成像
• 良好的颗粒对比度成像
• 支持许多其他工具的多功能平台

FIB缺点限制

• 通常需要真空兼容性
• 成像可能会破坏后续分析
• 分析面上的残留Ga
• 离子束损坏可能会限制图像分辨率
• 截面积小

FIB技术规格

• 检测到的信号：电子、二次离子、X射线、光（阴极发光）
• 成像/映射：是
• 横向分辨率/探头尺寸：7 nm（离子束）;20 nm（电子束）

FIB相关资源

• 网络研讨会：FIB
• 应用说明：高级显微镜

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