TXRF 网络研讨会

全反射X射线荧光(TXRF) 是一种无损元素调查技术,用于量化半导体晶片和薄膜的微量表面污染。TXRF是一种能量色散XRF,它使用非常浅的入射角(通常小于0.05)来探测光滑反射表面的顶部~50。 该技术利用不同能量的多个X射线激发源来量化从Na到U的各种元素。对于1厘米的分析点,TXRF的最大优势之一是能够绘制晶圆整个表面上污染物的空间分布图。 本次网络研讨会旨在概述与半

阅读:82011+ 时间:2023-04-11 源于:64 作者:ccpst 电话:400-9621-929

全反射X射线荧光(TXRF)是一种无损元素调查技术,用于量化半导体晶片和薄膜的微量表面污染。TXRF是一种能量色散XRF,它使用非常浅的入射角(通常小于0.05°)来探测光滑反射表面的顶部~50Å。

该技术利用不同能量的多个X射线激发源来量化从Na到U的各种元素。对于1厘米的分析点,TXRF的最大优势之一是能够绘制晶圆整个表面上污染物的空间分布图。

本次网络研讨会旨在概述与半导体世界相关的TXRF基础知识,并演示我们如何利用该技术在表征基板和薄膜。

在本次网络研讨会中,我们将介绍:

  • TXRF 的基本原理
  • 样品要求
  • 分析的类型
  • 使用典型示例的常见用途和示例
  • 优势和局限性

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