椭偏仪

Ellipsometry是一种功能强大的分析工具,用于表征许多材料中的薄膜,包括半导体,介电薄膜,金属和聚合物。 它也称为光谱椭偏仪(SE),它是一种非接触式非破坏性光学技术,可测量与样品相互作用后反射光的偏振变化。 极化的这种变化与材料特性有关。

椭偏法主要用于测量薄膜厚度,折射率(n)和消光系数(k),但也可以用于研究影响光偏振的其他属性,例如粗糙度,光学各向异性(双折射),晶体性质,组成,光学带隙和热膨胀。 请注意,此技术不会直接测量这些参数。 为了提取有关薄膜的有用信息,构建了一个描述样品光学参数的模型。 然后,拟合未知参数以获得理论响应和实验数据之间的最佳匹配。

理想用途

  • 平面基板上有机和无机薄膜的厚度,光学常数
  • 多层样品的单层厚度

优势强项

  • 非接触,非破坏性
  • 不受光源强度不稳定性或大气吸收的影响
  • 快速
  • 精确的薄膜厚度和光学常数测量

缺点限制

  • 没有直接测量材料特性; 必须将样品的光学模型拟合到数据中
  • 需要光学平坦的样品表面

技术规格

  • 获得的数据: 反射和透射椭偏数据、偏振透射和反射强度(波长范围 192–1689 nm)
  • 横向信息: 200 μm 或 2 mm,取决于光斑尺寸。 自动样品平移台(150×150 mm)可用于映射程序
  • 精度(厚度,光学常数): 主要取决于光学模型如何描述真实样本。 对于厚度,精度(重复性)可以优于0.1 nm,对于n和k,精度(重复性)优于0.001
  • 样品类型和要求: 具有光学平坦基板的固体,薄层和多层。 从亚单层覆盖到μm范围的厚度
  • 加热实验: 可在不同环境下进行温度(最高 300°C)相关测量
  • 现货尺寸:  200μm或2 mm

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