粒子诱导X射线发射（PIXE）是对样品因高能离子轰击而发出的X射线的测量。几种激发光束产生具有目标元素特征能量的X射线。光子激发（通过X射线）产生X射线荧光光谱。扫描电子显微镜或电子微探针中的电子激发提供能量色散或波长色散X射线光谱（取决于X射线色散和检测方法）。带电粒子束的He2+或H导致粒子诱导的X射线发射PIXE光谱。在所有三种情况下，激发光束去除核心电子，当外壳电子改变状态以填充内壳空位时，X射线以特定能量发射。发射的X射线能量与激发过程无关，但具有所存在元素的特征+。

该附件可用于 RBS 仪器上的重元素识别。由于质量相似，这些重元素在RBS反向散射能量方面可能只有很小的差异，但它们在粒子诱导的X射线发射PIXE光谱中可能具有明显的差异。粒子诱导的X射线发射PIXE作为一种分析技术有几个优点。它是非破坏性的，并提供类似于电子束对应物的信号电平，但它具有更好的信噪比。即使在粒子诱导的X射线发射PIXE能量下，其速度也比电子低得多。与电子诱导光谱相比，另一个优点是，与RBS一样，粒子诱导的X射线发射PIXE适用于绝缘样品。

PIXE理想用途

• 鉴定/定量仅靠RBS无法解决的较重元素

PIXE优势强项

• 快速、方便、与卢瑟福背散射光谱法相辅相成的技术
• 提供与电子束诱导对应物相似的信号电平，但具有更好的信噪比

PIXE缺点限制

• 大分析区域（~1-2 mm）
• 有用信息仅限于顶部 ~1 μm 样品

PIXE技术规格

• 检测到的信号： 反向散射氦原子
• 检测到的元素：铝 – U
• 检测限：0.1-10 at%
• 深度分辨率：没有
• 成像/映射：不
• 横向分辨率/探头尺寸：~1-2 mm

康派斯检测集团具有CMA/CNAS双资质认证，是权威第三方半导体检测机构，具备晶圆级测试能力，覆盖成像学、光谱学、质谱学、理化学、功能测试五大技术平台。提供SEM/TEM形貌分析、XPS成分分析、电学性能测试等服务，数据精准，周期可控。26年技术积淀，8000㎡实验室，助力芯片企业质量管控与研发创新。热线：400-9621-929。

您也可以致电400-9621-929与我们联系或填写下方表格，让专家工程师和您讨论具体的需求。